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全网担保网电子研发的粉末镀膜装备为三腔结构，真空腔体内部安排一个粉末镀膜反应腔，粉末镀膜反应腔内部包括有最多4个自力的样品仓，可一次沉积4种差别的粉末品 。接纳细密的反应气场控制，可以同时在四种差别纳米粉末上匀称生长薄膜质料;ALD反应所需的前驱体源通过两个自力的进气通道进入粉末镀膜反应腔，在经由样品仓后通出 。阻止了CVD反应，气流发动粉末在样品仓内举行稍微运动，使ALD反应能在粉末外貌顺遂举行 。
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