COMPANY PROFILE
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公司介绍
外洋微电子装备制造团队与中科院微电子所8室专家配合建设
一家专业的原子层沉积装备制造商
4000余平方米的研发及生产基地
30多人的研发及制造团队。
生产园地
切合半导体行业6S治理划定的生产园地,标准化生产
严酷的装备工艺验证,包管每台装备的质量
生长与妄想
2019年
单炉5000片2寸片装备通过产线验证2017年
进入某行业龙头企业,获多台订单2016年
海内首家乐成进入工业化市场的ALD装备厂商2013年
助力复旦乐成研制半浮栅晶体管SFGT2010年
4月 公司建设
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全网担保网优势
厂区自力的加工检测能力
生产园地具有入口晶圆测温仪(用于晶圆外貌现实温度的丈量和校准)、入口真空检漏仪(用于包管整个沉积系统的真空漏率达标)、swgaelok原装入口管路毗连器(包管前驱体源运送的可靠性)
产线验证
从2015年至2019年,公司装备为大型半导体/MEMS生产企业通过产线验证的ALD机型,稳固事情3年以上
研发支持
中科院微电子所具有千级净化级别700㎡、百级净化级别50㎡,并能利便的举行薄膜性能测试
ALD手艺
1970s-第一阶段
ALD的发明
Suntola提出ALD看法并逐渐完善
1980s-1990s-第二阶段
ALD的孕育与积累
ALD最先应用于TFT等领域奇异的自限制沉积模式优势初显
2000s~至今-第三阶段
ALD大规模应用与爆发
ALD最先应用于intel处置惩罚器的high-k层并最先大规模应用
应用领域一直拓展
能源领域:太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池质料增效
微电子和微机电领域:存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防侵蚀和抗磨损
光学应用:反射涂层和増透涂层,透镜;ぁ⒐庹て骷、曲面镀膜
其他:膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层
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